पातळ वेफर हाताळणीसाठी ॲल्युमिना-आधारित सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चक
सेंट.सेराचा ॲल्युमिना-आधारित सच्छिद्र चक ९९.६% उच्च-शुद्धतेच्या Al₂O₃ पासून बनवलेला आहे, ज्यामध्ये ३०-४५% नियंत्रित खुली सच्छिद्रता आणि १० ते ५० μm पर्यंत एकसमान छिद्रांचा आकार आहे. खोबणी असलेल्या चकांच्या विपरीत, सच्छिद्र पृष्ठभाग संपूर्ण वेफरच्या मागील बाजूस वितरित व्हॅक्यूम प्रदान करतो, ज्यामुळे कडांवर खुणा उमटणे टाळले जाते आणि अति-पातळ (≤१०० μm) किंवा वाकलेल्या वेफर्सना हळुवारपणे धरून ठेवणे शक्य होते. हे मटेरियल ≥२५० MPa इतकी लवचिक शक्ती आणि हवेत ४००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता प्रदान करते.
तपशील(९९.६% ॲल्युमिनियमवर आधारित)₂O₃):
| मालमत्ता | मूल्य |
| साहित्य | ९९.६% ॲल्युमिना (पांढरा) |
| सच्छिद्रता | ३०–४५% (समायोज्य) |
| सरासरी छिद्र आकार | १०–५० μm |
| वाकण्याची ताकद | ≥२५० एमपीए |
| घनता | ३.८८ ग्रॅम/सेमी³ |
| सपाटपणा (२०० मिमी पेक्षा जास्त) | ≤५ μm |
| कमाल ऑपरेटिंग तापमान | ४००°से (हवा) |
| पृष्ठभाग फिनिश | लॅप्ड (Ra ≤0.8 μm) |
अनुप्रयोग:
- · पातळ वेफर (≤५० μm) मागील बाजूचे ग्राइंडिंग
- · डायसिंगसाठी वाकलेले वेफर माउंटिंग
- · सिंग्युलेटेड डाय पिक-अप
- · काचेच्या सब्सट्रेटची हाताळणी
उत्पादन:
पोर फॉर्मर्ससह मिसळलेली पावडर → आयसोस्टॅटिक प्रेसिंग → १६००°C वर सिंटरिंग → अंतिम जाडीपर्यंत लॅपिंग. प्रत्येक चकची व्हॅक्यूम एकसमानतेसाठी (दाबातील तफावत <५%) फ्लो-टेस्ट केली जाते आणि छिद्रांच्या आकाराच्या वितरणासाठी (SEM) तपासणी केली जाते.
पारंपरिक चकांच्या तुलनेत फायदे:
- · वेफरच्या मागील बाजूस कोणतीही खूण किंवा डाय शिफ्ट नाही
- • ५०० μm पर्यंतच्या कमानीसह वेफर्स धरून ठेवते
- · स्वतःहून स्वच्छ होणारा पृष्ठभाग (छिद्रं बंद होण्यास प्रतिकार करतात)
- · एकसमान आधारामुळे स्थानिक ताण नाहीसा होतो
Cसानुकूलन:
गोल किंवा चौकोनी आकार, व्यास १००–४५० मिमी. झोन व्हॅक्यूम नियंत्रणासाठी एज सीलिंग रिंग उपलब्ध.
तुमच्या विशिष्ट वेफरच्या आकारासाठी नमुन्याची विनंती करा.
