वाकलेल्या वेफर हाताळणीसाठी सच्छिद्र सिरेमिक व्हॅक्यूम चक
सेंट.सेराचा सच्छिद्र सिरॅमिक चक उच्च-शुद्धतेच्या ॲल्युमिनापासून तयार केला जातो, ज्यामध्ये ३०-४५% एकसमान खुली सच्छिद्रता आणि १० ते १०० μm आकाराचे छिद्र असतात. पारंपरिक खोबणी असलेल्या चकांच्या विपरीत, याचा सच्छिद्र पृष्ठभाग संपूर्ण वेफरच्या मागील बाजूस वितरित व्हॅक्यूम प्रदान करतो, ज्यामुळे वाकलेले, पातळ किंवा एकेकटे वेफर्स कडा न उचलता किंवा न तुटता प्रभावीपणे धरले जातात. हा सौम्य व्हॅक्यूम (जो रेस्ट्रिक्टरद्वारे समायोजित करता येतो) मागील बाजूस खुणा उमटण्यापासून देखील प्रतिबंधित करतो.
तपशील(९९.६% ॲल्युमिनियमवर आधारित)₂O₃):
| मालमत्ता | मूल्य |
| सच्छिद्रता | ३०-४५% |
| सरासरी छिद्र आकार | १०–१०० μm (निवडण्यायोग्य) |
| वाकण्याची ताकद | ≥२५० एमपीए |
| सपाटपणा (३०० मिमी पेक्षा जास्त) | ≤५ μm |
| पृष्ठभाग फिनिश | लॅप्ड (Ra 0.8 μm) |
| कमाल व्हॅक्यूम पातळी | -८० केपीए |
| ऑपरेटिंग तापमान | ४००°से (हवा), ६००°से (अक्रिय) |
| साहित्य | 99.6% Al₂O₃, ZrO₂, किंवा SiC |
अनुप्रयोग:
पातळ वेफर (≤५० μm) मागील बाजूचे ग्राइंडिंग
डाइसिंगसाठी वाकलेले वेफर माउंटिंग
टेपमधून सिंग्युलेटेड डाय पिक-अप
काचेच्या पॅनेलची हाताळणी
उत्पादन आणि गुणवत्ता:
सेंद्रिय छिद्र-निर्मात्यांसोबत सिरॅमिक पावडर मिसळून → दाबून → भाजून → अंतिम जाडीपर्यंत घासून गुळगुळीत केले जाते. प्रत्येक चकची निर्वात एकसमानतेसाठी (≤५% विचलन) प्रवाह-चाचणी केली जाते आणि छिद्रांच्या आकाराच्या वितरणासाठी (SEM) तपासणी केली जाते. सपाटपणा लेझर इंटरफेरोमीटरने मोजला जातो.
ग्रूव्ह्ड चक्सच्या तुलनेत फायदे:
वेफरच्या कडेवर कोणतीही खूण किंवा डाय शिफ्ट नाही
वाकलेले वेफर्स (५०० मायक्रॉन पर्यंतच्या वाकणासह) धरून ठेवते.
व्हॅक्यूम होल चोक होणे टाळते
पातळ सब्सट्रेट्ससाठी स्व-पातळीकरण आधार
सानुकूलन:
गोल किंवा आयताकृती आकार, ६०० मिमी पर्यंतचा आकार. आम्ही एज सीलिंग रिंग्ज किंवा झोन व्हॅक्यूम पार्टिशन्स लावू शकतो. उच्च कडकपणाच्या गरजांसाठी मेटल-बॅक्ड आवृत्त्या उपलब्ध आहेत.
तुमच्या वेफरचा आकार आणि वाकण्याच्या चाचणीसाठी नमुन्याची विनंती करा.









