सीव्हीडी/पीव्हीडी शॉवरहेडसाठी ॲल्युमिना गॅस वितरण प्लेट
सेंट.सेराची गॅस वितरण प्लेट (शॉवरहेड) ही उच्च-शुद्धतेच्या ९९.८% ॲल्युमिना सिरॅमिकपासून अचूकपणे मशीन केलेली आहे. यामध्ये सूक्ष्म छिद्रांची (व्यास ०.३–१.५ मिमी) एक रचना आहे, जी CVD, PVD किंवा ALD प्रक्रियेदरम्यान वेफरच्या पृष्ठभागावर एकसमान वायू प्रवाह सुनिश्चित करते. प्लेटची उच्च डायलेक्ट्रिक क्षमता (>१५×१०⁶ V/m) आणि प्लाझ्मा प्रतिरोध यामुळे ती सेमीकंडक्टर थिन-फिल्म डिपॉझिशनसाठी अत्यावश्यक ठरते.
वैशिष्ट्ये:
| मालमत्ता | मूल्य |
| साहित्य | ९९.८% Al₂O₃ किंवा SiC |
| व्यास | १०० – १५०० मिमी (गोल) किंवा आयताकृती |
| जाडी | ५ – २० मिमी |
| छिद्राचा व्यास | ०.३ – १.५ मिमी |
| छिद्रांचा नमुना | सानुकूल (त्रिकोणी, चौरस, त्रिज्यीय) |
| सपाटपणा | संपूर्ण क्षेत्रावर ≤१० μm |
| पृष्ठभागाचा खडबडीतपणा | Ra ≤0.6 μm (वायू बाजू) |
| मोकळ्या जागेचे प्रमाण | ५-१५% |
अनुप्रयोग:
पीईसीव्हीडी शॉवरहेड प्लेट्स
एएलडी गॅस इंजेक्टर
एच चेंबर गॅस वितरण प्लेट्स
MOCVD रिॲक्टरचे घटक
उत्पादन:
ॲल्युमिना सबस्ट्रेट सपाट करणे → डायमंड-कोटेड टूल्सने सीएनसी ड्रिलिंग (छिद्राच्या स्थितीची सहनशीलता ±0.02 मिमी) → डिबरिंग → अल्ट्रासोनिक क्लीनिंग → क्लास 100 पॅकेजिंग.
गुणवत्ता नियंत्रण:
प्रत्येक प्लेटची छिद्रांच्या आकारासाठी (व्हिजन सिस्टीम), सपाटपणासाठी (लेझर इंटरफेरोमीटर) आणि वायू प्रवाहाच्या एकसमानतेसाठी (प्रेशर मॅपिंग) १००% तपासणी केली जाते. २०x मायक्रोस्कोपखाली कोणतेही सूक्ष्म तडे आढळले नाहीत.
धातूच्या प्लेट्सच्या तुलनेत फायदे:
पातळ थरांमध्ये धातूंचे प्रदूषण नाही
कमी कण निर्मिती (गंजाचे कण नाहीत)
तीव्र क्लिनिंग प्लाझ्माचा (CF₄, NF₃) सामना करते
सानुकूल वैशिष्ट्ये:
मागील बाजूस गॅस चॅनेल, काउंटर-बोअर केलेली छिद्रे, एज सील आणि विविध मटेरियल ग्रेड (उच्च थर्मल चालकतेसाठी SiC, प्लाझ्मा प्रतिकारासाठी Y₂O₃ कोटिंग).
आम्ही उत्पादनापूर्वी सीएडी पडताळणी आणि प्रवाह सिम्युलेशन प्रदान करतो.
